Национальная ассоциация трансфера технологий Запросы Каталог запросов Мои запросы Отклики исполнителей Сохраненные запросы Бизнес-задачи Добавить новый запрос Предложения Каталог предложений Мои предложения Сохраненные предложения Добавить новое предложение Исполнители Заказчики Инструкция Контакты Войти Зарегистрироваться Войти Зарегистрироваться Запросы Каталог запросов Мои запросы Отклики исполнителей Сохраненные запросы Бизнес-задачи Добавить новый запрос Запросы Назад Предложения Каталог предложений Мои предложения Сохраненные предложения Добавить новое предложение Предложения Назад Исполнители Каталог исполнителей Исполнители Назад Заказчики Каталог заказчиков Заказчики Назад Инструкция Контакты Фоточувствительная поверхностно-барьерная структура на основе германо-силикатного стекла для оптоэлектроники Вернуться к списку Быстрый переход: Основная информация Решаемые проблемы и области применения Технология Текущее состояние Команда проекта Бизнес-модель Партнеры проекта Финансовый профиль Предложение инвестору / партнеру Прикреплённые файлы к проекту Контактная информация Основная информация Название : Фоточувствительная поверхностно-барьерная структура на основе германо-силикатного стекла для оптоэлектроники Организация-исполнитель : ✓ Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Новосибирский национальный исследовательский государственный университет" Автор предложения: Александр Белимов Основное технологическое направление : Новые конструкционные материалы, методы обработки и производства Дата публикации: 15.11.2024 Видимость : Да Аннотация: Фоточувствительная структура состоит из кремниевой подложки с туннельно-тонким диэлектрическим слоем оксида кремния и прозрачным электродом, между которыми размещён диэлектрический слой германо-силикатного стекла. Такая конструкция позволяет регистрировать фототок в широком спектре, поглощая излучение как в приповерхностной области подложки, так и в слое диэлектрика. Технология нанесения слоёв осуществляется методами физического испарения и магнетронного распыления в вакууме, что обеспечивает оптимальные электрические и оптические свойства. Решаемые проблемы и области применения Решаемые проблемы : Повышение эффективности регистрации оптических сигналов в широком спектральном диапазоне, включая видимый и инфракрасный диапазоны, при устранении недостатков традиционных фоточувствительных структур, таких как низкий фототок и необходимость использования высоких напряжений и температур. Области применения: IT, электроника и приборостроение Технология Описание технологии и ее ценность : Фоточувствительная структура состоит из кремниевой подложки с туннельно-тонким диэлектрическим слоем оксида кремния и прозрачным электродом, между которыми размещён диэлектрический слой германо-силикатного стекла. Такая конструкция позволяет регистрировать фототок в широком спектре, поглощая излучение как в приповерхностной области подложки, так и в слое диэлектрика. Инновационность технологии, конкурентные преимущества : Расширение спектра регистрации излучения до видимого и инфракрасного диапазона; Повышение фототока за счёт оптимизации толщины слоёв и использования германо-силикатного стекла; Снижение необходимых напряжений для работы устройства; Устранение необходимости высоких температур отжига при производстве. Текущее состояние Стадия готовности : TRL 4. Лабораторный образец Интеллектуальная собственность : Название документа Патент РФ на полезную модель Контактная информация Показать контакты