Технология очистки поверхностей широкозонных полупроводников и диэлектриков
Основная информация
Название :
Технология очистки поверхностей широкозонных полупроводников и диэлектриков
Автор предложения:
Основное технологическое направление :
Новые конструкционные материалы, методы обработки и производства
Дата публикации:
07.12.2024
Видимость :
Да
Аннотация:
Технология очистки поверхностей широкозонных полупроводников и диэлектриков на основе источника нейтральных частиц с мультикасповой магнитной системой
Решаемые проблемы и области применения
Решаемые проблемы :
Предварительная очистка поверхностей широкозонных полупроводников и диэлектриков перед нанесением функциональных покрытий
Области применения:
IT, электроника и приборостроение
Технология
Описание технологии и ее ценность :
Технология очистки поверхностей широкозонных полупроводников и диэлектриков на основе источника нейтральных частиц с мультикасповой магнитной системой за счет эффективной нейтрализации ионов и однородности выходного потока обеспечивает высокое качество очистки, исключает образование поверхностного потенциала и позволяет создавать на очищенных поверхностях функциональные покрытия с высоким уровнем адгезии и качественно сформированной структурой.
Инновационность технологии, конкурентные преимущества :
Уникальное техническое решение, отличающееся простотой использования и меньшей стоимостью в сравнении с конкурирующими технологиями очистки. Возможность встраивания устройства в существующее ионно-плазменное технологическое оборудование для использования в рамках одного технологического цикла. Высокая скорость и хорошее качество обработки поверхностей широкозонных полупроводников и диэлектриков.
Текущее состояние
Стадия готовности :
TRL 7. Опытный образец, испытанный в реальных условиях эксплуатации
Описание текущего состояния :
Разработан прототип устройства
Проведены испытания устройства
Команда проекта
Численность проектной команды :
6
Структура и компетенции команды :
Опыт разработки ионно-плазменного оборудования, глубокое понимание технологических процессов в вакуумной и плазменной электронике
Бизнес-модель
Целевые сегменты:
Производственные предприятия, специализирующиеся на производстве изделий электроники, приборостроении и машиностроении, разработчики и производители ионно-плазменного технологического оборудования
Ценностное предложение:
Увеличение производительности оборудования, сокращение времени производственного процесса, снижение затрат потребляемых ресурсов, а также повышение качества формируемых покрытий благодаря эффективной очистке поверхностей широкозонных полупроводников и диэлектриков
Предложение инвестору / партнеру
Необходимые ресурсы для реализации проекта :
-
Дорожная карта развития проекта :
| 2025 |
| - |